在例行維護(hù)和發(fā)生系統(tǒng)擾亂時(shí),頗爾卓越的過濾器利用行業(yè)領(lǐng)先的金屬纖維技術(shù),可以快速置換氣體和實(shí)現(xiàn)分子透明性。
優(yōu)點(diǎn):減少與氣體相關(guān)的缺陷,可定制濾材,過濾各種氣體,行業(yè)領(lǐng)先的過濾器品質(zhì),減少脫氣和顆粒物雜質(zhì)
頗爾工藝氣體過濾系統(tǒng)清除關(guān)鍵半導(dǎo)體UHP氣流中的顆粒污染物。請聯(lián)系頗爾專家,了解避免缺陷和提高產(chǎn)率以實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場最大性能的更多信息。
顯示面板 |查看頗爾如何能幫助您改善電鍍、拋光、清潔液體(UPW、IPA)和潤滑過程。
VIEW 顯示面板 產(chǎn)品
頗爾微電子業(yè)務(wù)單元
半導(dǎo)體
顯示面板
噴墨打印
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
光伏
顯示面板清潔系統(tǒng) 專為滿足您的需求而設(shè)計(jì)。從各種創(chuàng)新、高效的應(yīng)用中選擇。
顯示面板制造商一直面臨著一項(xiàng)挑戰(zhàn),即制造更具成本效益的顯示屏。TFT-LCD顯示屏(薄膜晶體管液晶顯示屏)的制造商占全球顯示面板市場的80%,
他們必須不斷推出新制造技術(shù),以實(shí)現(xiàn)對于更高像素分辨率的需求。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn),對于8.5 代和更大尺寸的世代線而言,對制造過程中使用的液體和氣體污染控制至關(guān)重要。
無論是哪種應(yīng)用或要求,我們所具備的相關(guān)技術(shù)和專業(yè)知識,可幫助顯示面板制造商減少缺陷、停機(jī)時(shí)間最小化、提高顯示屏質(zhì)量并提高盈利。
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)中的面密度不斷提高,以至于污染控制成為極為重要的環(huán)節(jié)。選擇正確的過濾器技術(shù)對于產(chǎn)量最大化,單位磁盤成本保持在盡可能低的水平而言具有重大意義。
我們具備滿足這些要求的過濾技術(shù)、制造經(jīng)驗(yàn)和過程知識。 頗爾提供用于顯示面板生產(chǎn)的工藝氣體分析和過濾技術(shù)解決方案。
顯示面板制造商一直面臨著挑戰(zhàn),即制造更具成本效益的顯示屏。顯示屏制造商必須不斷推出新的制造技術(shù),以實(shí)現(xiàn)對于更高像素分辨率的要求。
為了滿足這些挑戰(zhàn),在制造過程中對所用液體和氣體進(jìn)行污染控制至關(guān)重要。
顯示面板應(yīng)用
干燥空氣
在業(yè)態(tài)形勢復(fù)雜的顯示屏行業(yè),CDA被廣泛用于各種制程,對氣動(dòng)系統(tǒng)的效率具有重要作用。顆粒污染可加速氣動(dòng)系統(tǒng)損耗,閥門堵塞,從而導(dǎo)致停機(jī)時(shí)間以及運(yùn)行成本增加。
清潔系統(tǒng)
Pall顯示清潔系統(tǒng)消除導(dǎo)致工藝偏差的雜質(zhì)和污染物,例如化學(xué)反應(yīng)、表面缺陷和清潔效果不佳。
Pall提供了廣泛的化學(xué)兼容過濾器,適用于具有高流量和行業(yè)領(lǐng)先顆粒去除效率的強(qiáng)效工藝化學(xué)品(臭氧水、氫氟酸、光刻膠)。 了解更多
濾光片
俘獲顆粒、污染物、氣泡和膠體會(huì)造成液晶顯示屏彩色濾光片表面不一致。為了保持深度一致性,清除針孔存在的可能性,以及使整體產(chǎn)品質(zhì)量最大化,則需要對有害雜質(zhì)進(jìn)行控制。 了解更多
氣體過濾和純化
頗爾工藝氣體過濾和凈化系統(tǒng)采用行業(yè)領(lǐng)先的技術(shù),可有效去除顆粒和分子雜質(zhì)。這些系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于減少可造成產(chǎn)量降低的顆粒和雜質(zhì),防止其在顯示關(guān)鍵制程中增加缺陷。 了解更多
光刻
頗爾光刻膠過濾器采用眾多自主研制的薄膜材料,以最大程度地減少金屬離子、膠體和微氣泡形成。經(jīng)優(yōu)化的過濾器設(shè)計(jì)可減少啟動(dòng)過程中的化學(xué)品用量,并最大程度減少晶元表面缺陷。 了解更多
液晶滴注-ODF
頗爾的液晶滴下過濾系統(tǒng)可封堵和清除液晶(LC)材料內(nèi)可造成粘性顆粒和污染物的缺陷,以減少各種表面缺陷。
通過使用為專低壓過濾環(huán)境設(shè)計(jì)的過濾器可有效減少液晶表面的缺陷,并消除在液晶滴下過程中導(dǎo)致缺陷的微氣泡。 了解更多
有機(jī)材料與打印
為了實(shí)現(xiàn)正確的著色和輸出的穩(wěn)定性,同時(shí)將成本降至最低,需要對噴墨過濾進(jìn)行優(yōu)化。通過實(shí)施Pall過濾系統(tǒng),可以顯著減少有機(jī)薄膜表面的缺陷和其他由污染物引起的問題。
Pall提供經(jīng)濟(jì)高效的解決方案,以滿足OLED薄膜制造商的需求,并且設(shè)計(jì)用于高容量使用且占地面積小。 了解更多
濕法刻蝕與化學(xué)品
頗爾濕蝕刻清洗過濾器可清除高流速應(yīng)用中的雜質(zhì)和污染物,這些物質(zhì)會(huì)引發(fā)制程突發(fā)異常,如化學(xué)反應(yīng)、表面缺陷和無效清潔,從而造成顯示屏質(zhì)量下降。
消除雜質(zhì) 頗爾的Gaskleen
Pico1000分析器可測量氮?dú)夂蜌鍤夤に嚉怏w流中的微量水分,檢測極限為每兆300個(gè)(300 ppt)。
此系統(tǒng)最適用于超高純度工藝氣體的定性處理和認(rèn)證測試,由此可檢測純化器使用壽命結(jié)束時(shí)間。
通過其堅(jiān)固緊湊的設(shè)計(jì),用戶可輕松地將其在設(shè)施周圍移動(dòng)進(jìn)行工藝氣體質(zhì)量的快速檢查,或解決潮濕所造成的突發(fā)狀況。
Pico1000相比市場上同類型的分析器,其消耗的工藝氣體量可減少達(dá)70%。
Pall Ultipleat
G2 SP DR 過濾器設(shè)計(jì)專用于在HF和BOE等重要的表面制備化學(xué)液槽內(nèi)實(shí)施高流速的、改良型顆粒去除過程。
SP DR 過濾器采用頗爾自主研發(fā)的薄膜建模技術(shù)(MMT),具有高度非對稱性薄膜結(jié)構(gòu),可使在整個(gè)深度范圍內(nèi)從微氣孔到納米氣孔的轉(zhuǎn)換過程中,氣孔尺寸具有統(tǒng)一分布。
由此,這些過濾器可滯留最小至2納米的顆粒,而不會(huì)對流量產(chǎn)生限制。
Pall Ultipleat
G2 SP DR KC組裝件是完全一次性使用的過濾器單元,最適合用于蝕刻液、低溫剝離化學(xué)品和DI水過濾。
這些高質(zhì)量的過濾器可實(shí)現(xiàn)MMT加強(qiáng)型雙倍顆粒保留,優(yōu)異的HF過濾,更高的流速,以更長的使用壽命。
極細(xì)小的微孔薄膜點(diǎn)陣可生成高表面能量薄膜,以最大程度減少微氣孔的形成。用戶還能通過使用KC一次性組裝件防止過程污染。
頗爾顯示面板清潔系統(tǒng)可徹底清除重要清潔系統(tǒng)中可造成缺陷的污染物。